NANOSKIN 컴폴리시 희석비 & 사용 가이드
COMPOLISH
나노스킨 컴폴리시는 미세 스크래치, 스월 마크, 거미줄 자국, 가벼운 산화를 다루기 위한 미세 폴리싱 컴파운드입니다. 울 폴리싱 패드와 폼 컷팅 패드와 함께 사용해 스월과 홀로그램을 제거하고 광택 있는 마감을 남기며, 실리콘·왁스·필러를 넣지 않아 FIRST CUT 이후 2단계 폴리싱 단계로 사용하도록 만들었습니다.
- 브랜드
- NANOSKIN
- 카테고리
- Exterior : Polishes
- 기본 희석 비율
- RTU
- pH
- neutral (7)
- 최종 업데이트
- 2026-09-07
작용 방식
- 유성(석유계) 용제 — 타르·기름때를 녹이며, 도장면에 오래 두지 않는 것이 좋습니다.
공개 성분
| 성분 | CAS | 역할 |
|---|---|---|
| Aliphatic naptha | 64742-88-7 | 용제 |
제조사 물질안전보건자료(SDS)에 공개된 성분입니다. SDS는 유해성 분류 대상 성분만 기재하므로 전 성분 목록이 아닙니다.
핵심 특징
- 미세 스크래치·스월 마크·거미줄 자국 제거
- 가벼운 산화 제거
- 스월·홀로그램 없는 마감
- 광택 있는 마감
- 분진이 적은 배합
- 실리콘·왁스·필러 무첨가
- FIRST CUT 다음 2단계
희석 비율
| 용도 | 희석 | 비율 |
|---|---|---|
| Exterior : Polishes (기본) | RTU | 1:0 |
사용법
- 잘 흔든 뒤 직사광선을 피해 차갑고 깨끗한 도장면에만 사용합니다.
- 핸드 도포: 부드러운 천에 소량을 묻혀 스크래치가 줄어들 때까지 문지른 뒤 잔여물을 닦습니다.
- 로터리 폴리셔: 소량을 도포하고 울 또는 폼 패드로 저속 버핑하며 패드를 살짝 좌우로 기울입니다. 잔여물을 닦아냅니다.
- DA 또는 오비탈 폴리셔: 소량을 도포하고 스월이 줄어들 때까지 폴리싱한 뒤 잔여물을 닦습니다.
NANOSKIN COMPOLISH is a fine polishing compound aimed at minor scratches, swirl marks, spider webs, and light oxidation. Used with a wool polishing pad and a foam cutting pad, it removes swirls and holograms and leaves a high-gloss finish; it is free of silicone, wax, and fillers and is intended as the second step after FIRST CUT.
Key features
- Removes minor scratches, swirl marks, and spider webs
- Removes light oxidation
- Leaves paint free of swirls and holograms
- High-gloss finish
- Low-dust formula
- Free of silicone, wax, and fillers
- Second step after FIRST CUT
Usage
- Shake well and apply only to clean, cool paint out of direct sunlight.
- Hand: apply a small amount to a soft cloth and rub until the scratches are reduced, then wipe off residue.
- Rotary polisher: apply a small amount and buff with a wool or foam pad at low RPM, tilting the pad side to side slightly. Wipe off residue.
- DA or orbital polisher: apply a small amount and polish until swirls are reduced, then wipe off residue.
다른 이름: 나노스킨, NANOSKIN COMPOLISH, NS COMPOLISH, 나노스킨 컴폴리시
출처
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