GYEON Q2M 폴리시 희석비 & 사용 가이드
Q²M Polish
도장면에 홀로그램 없는 선명도와 깊은 광택을 구현하도록 설계된 피니싱 폴리시입니다. 심한 결함 제거보다 표면 리파인먼트에 중점을 두어 보호 전 마지막 폴리싱 단계에 이상적입니다. 작업과 닦아내기가 쉽고 도장 보정 마무리 단계에서 정밀한 컨트롤을 제공합니다.
작용 방식
- 연마 입자 — 미세 입자로 표면을 깎아내 흠집과 산화를 제거합니다.
- 유성(석유계) 용제 — 타르·기름때를 녹이며, 도장면에 오래 두지 않는 것이 좋습니다.
- 컨디셔닝 오일 — 가죽·고무에 유분을 보충해 건조를 늦춥니다.
- 용제 기반 — 유기 용제가 주로 쓰인 제품입니다. 실내·플라스틱에는 환기와 시험 도포를 권합니다.
공개 성분
| 성분 | CAS | 역할 |
|---|---|---|
| Water | 7732-18-5 | 희석제 |
| aluminium oxide | 1344-28-1 | 연마제 |
| Naphtha (petroleum), hydrotreated heavy; Low boiling point hydrogen treated naphtha | 64742-48-9 | 용제 |
| Glycerol | 56-81-5 | 보습제 |
| Distillates (petroleum), hydro-treated light; Kerosine - unsp ified | 64742-47-8 | 용제 |
| White mineral oil (petroleum) | 8042-47-5 | 유연제 |
제조사 물질안전보건자료(SDS)에 공개된 성분입니다. SDS는 유해성 분류 대상 성분만 기재하므로 전 성분 목록이 아닙니다.
핵심 특징
- 저분진
- 실리콘 무첨가
- 필러 무첨가
희석 비율
| 용도 | 희석 | 비율 |
|---|---|---|
| Exterior : Polishes (기본) | RTU | 1:0 |
사용법
- 깨끗한 피니싱 또는 라이트 컷 패드에 폴리시를 소량 올립니다.
- 더블 액션 또는 로터리 폴리셔로 적절한 속도에서 패널을 작업합니다.
- 표면의 헤이즈가 사라지고 깊은 광택이 나타날 때까지 폴리싱합니다.
- 부드러운 극세사 타월로 잔여물을 깔끔하게 닦아냅니다.
- 마감 상태를 확인하고 선택한 보호 코팅 도포를 위해 표면을 준비합니다.
A refined finishing polish engineered to deliver hologram-free clarity and deep gloss on paint surfaces. It focuses on surface refinement rather than heavy defect removal, making it ideal as a final polishing step before protection. Easy to work and clean up, it gives precise control during the finishing stage of paint correction.
Key features
- Low Dust
- Silicone-Free
- Filler-Free
Usage
- Apply a small amount of polish to a clean finishing or light-cut pad.
- Work the panel at a moderate speed using a dual-action or rotary polisher.
- Continue polishing until surface haze clears and deep gloss emerges.
- Wipe residue cleanly from the panel with a soft microfibre towel.
- Inspect the finish and prepare the surface for the chosen protective coating.
다른 이름: 기온, 기온쿼츠, GYEON QUATZ, gyeon quartz, 기연, 쿼츠, Q2M Polish, 기온 폴리시, GYEON Polish, 폴리시, Gyeon Polish, Q2M폴리시, 피니싱 폴리시, Finishing Polish, 기온 피니싱 폴리시, 폴리싱제
출처
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